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HYDROGEN-2L/3L氣相色譜專(zhuān)用氫氣發(fā)生器是一種能夠連續(xù)可靠地產(chǎn)生高純度氫氣的設(shè)備,其純度可達(dá)到99.9999%以上。相比昂貴的高壓氫氣鋼瓶,該設(shè)備具有更高的安全性和經(jīng)濟(jì)性,不再需要更換鋼瓶,從而避免了中斷重要分析工作的情況。
HYDROGEN/5L/10L/17L氫氣發(fā)生器是由超純水機(jī)制取二級(jí)水,并儲(chǔ)存至水箱備用的設(shè)備。當(dāng)氫氣發(fā)生器缺水時(shí),它會(huì)自動(dòng)供給水。此外,多臺(tái)氫氣發(fā)生器還可以串聯(lián)使用,通過(guò)串聯(lián)控制線由一臺(tái)發(fā)生器控制其他發(fā)生器,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)氣均勻分配。
CVD,MOCVD專(zhuān)用氫氣發(fā)生器操作方便使用時(shí)只需打開(kāi)電源開(kāi)關(guān)即可產(chǎn)氫,使用后無(wú)需泄壓,直接關(guān)閉電源即可。可連續(xù)使用,也可間斷使用,產(chǎn)氫量穩(wěn)定不衰減。
功能方面,高壓氫氣發(fā)生器具有自動(dòng)水位控制功能,當(dāng)缺水狀態(tài)時(shí),自動(dòng)停機(jī),自動(dòng)補(bǔ)水功能,水量低于15%時(shí),由外置水箱自動(dòng)補(bǔ)水,無(wú)需停機(jī)加水。有效保護(hù)電解池,延長(zhǎng)使用壽命。
CVD(Chemical Vapor Deposition)和MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是兩種常用的化學(xué)氣相沉積技術(shù),用于制備薄膜、涂層和納米材料等。
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